隨著科技的不斷發(fā)展,各種先進(jìn)的工業(yè)設(shè)備不斷涌現(xiàn),VCD高真空箱便是其中之一。作為一種在多個(gè)領(lǐng)域都有著廣泛應(yīng)用的重要設(shè)備,VCD高真空箱以其性能優(yōu)勢(shì),為科研人員、工程師和技術(shù)人員提供了強(qiáng)有力的支持。本文將詳細(xì)介紹VCD高真空箱的工作原理、特點(diǎn)、應(yīng)用領(lǐng)域以及技術(shù)參數(shù)。
一、VCD高真空箱的工作原理
VCD高真空箱是一種能夠在特定空間內(nèi)創(chuàng)造并維持高真空環(huán)境的設(shè)備。其工作原理主要依賴(lài)于真空泵和真空密封系統(tǒng)。真空泵通過(guò)抽取容器內(nèi)的氣體分子,使容器內(nèi)部的氣體壓力逐漸降低,從而達(dá)到所需的真空度。同時(shí),真空密封系統(tǒng)確保容器在抽氣過(guò)程中不會(huì)漏氣,以保持穩(wěn)定的真空環(huán)境。
二、VCD高真空箱的特點(diǎn)
1. 高真空度:VCD高真空箱能夠創(chuàng)造并維持極低的真空環(huán)境,以滿足各種實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)需求。
2. 穩(wěn)定性好:設(shè)備采用先進(jìn)的真空密封技術(shù)和控制系統(tǒng),確保在長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)行過(guò)程中,真空度能夠保持穩(wěn)定。
3. 操作簡(jiǎn)便:VCD高真空箱通常配備有智能控制系統(tǒng),用戶(hù)可以通過(guò)觸摸屏或電腦軟件輕松設(shè)置和監(jiān)控設(shè)備的工作狀態(tài)。
4. 安全性高:設(shè)備設(shè)計(jì)符合相關(guān)安全標(biāo)準(zhǔn),具有過(guò)壓保護(hù)、過(guò)熱保護(hù)等安全措施,確保操作人員和設(shè)備的安全。
5. 適用范圍廣:VCD高真空箱可用于半導(dǎo)體制造、光學(xué)鍍膜、材料研究等多個(gè)領(lǐng)域,具有廣泛的應(yīng)用前景。
三、VCD高真空箱的應(yīng)用領(lǐng)域
1. 半導(dǎo)體制造:在半導(dǎo)體制造過(guò)程中,VCD高真空箱被用于晶圓處理、鍍膜、離子注入等關(guān)鍵工藝步驟,以確保產(chǎn)品的質(zhì)量和性能。
2. 光學(xué)鍍膜:VCD高真空箱為光學(xué)鍍膜提供了理想的實(shí)驗(yàn)和生產(chǎn)環(huán)境,使得薄膜材料能夠在高真空條件下均勻沉積,從而獲得高質(zhì)量的光學(xué)器件。
3. 材料研究:在材料研究領(lǐng)域,VCD高真空箱被用于研究材料的物理、化學(xué)和機(jī)械性能,以及材料在真空環(huán)境下的行為變化。
4. 航空航天:在航空航天領(lǐng)域,VCD高真空箱被用于模擬太空環(huán)境,測(cè)試航天器及其部件在真空環(huán)境下的性能表現(xiàn)。
5. 其他領(lǐng)域:除了以上領(lǐng)域外,VCD高真空箱還可用于真空焊接、真空熱處理、真空干燥等多個(gè)領(lǐng)域。
四、VCD高真空箱的技術(shù)參數(shù)
規(guī)格型號(hào): HE-WD-300 HE-WD-400 HE-WD-500 HE-WD-600
內(nèi)箱尺寸(mm): 300×300×300 400×400×400 500×500×500 600×600×600
外形尺寸(mm): 700×550×1250 700×660×1450 780×770×1550 900×860×1650
真空度范圍: 100000Pa~1Pa
控制方式: 真空計(jì)顯示或PLC觸摸屏控制
結(jié)構(gòu): 一體式結(jié)構(gòu)(內(nèi)置真空泵)或分體式(外置真空泵)
內(nèi)箱材質(zhì): SUS304#不銹鋼
外箱材質(zhì): SECC鋼板高級(jí)烤漆處理
使用電源: AC 單相 三線 220V 50HZ或AC 三相 五線 380V 50HZ
選加功能: 加熱功能(RT+10℃~200℃)
真空泵: 另購(gòu)(可用戶(hù)自備)